產(chǎn)品簡(jiǎn)介

日本電子JEOL肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡IT800
半浸沒(méi)式物鏡是指在通常物鏡的下部還有一個(gè)由泄露磁場(chǎng)形成的強(qiáng)磁場(chǎng)透鏡。JEOL的半浸沒(méi)式物鏡能夠提高電子束的聚焦能力，實(shí)現(xiàn)超高分辨率。而且還能夠更高效地收集那些從樣品激發(fā)出來(lái)的低能量二次電子，提高UID檢測(cè)器的檢測(cè)效率。

日本電子JEOL肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡IT800產(chǎn)品介紹：

一、日本電子JEOL肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡IT800高分辨率成像能力

JSM-IT800采用浸沒(méi)式肖特基Plus場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)Y(jié)合低像差聚光透鏡和Neo Engine電子光學(xué)控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了納米級(jí)分辨率。其二次電子圖像分辨率在15kV加速電壓下可達(dá)0.5nm，即使在1kV低電壓下仍保持0.7nm的高分辨率。這一特性使其在觀察納米材料、半導(dǎo)體器件等微觀結(jié)構(gòu)時(shí)具有顯著優(yōu)勢(shì)，例如可清晰顯示小于10nm的催化劑顆粒分布。

二、靈活模塊化設(shè)計(jì)

多種物鏡選擇：提供五種物鏡模塊，包括通用型混合透鏡（HL）、高分辨率超級(jí)混合透鏡（SHL/SHLs）以及專(zhuān)為半導(dǎo)體設(shè)計(jì)的半浸沒(méi)式物鏡（i/is），滿足從磁性材料到絕緣體的多樣化分析需求。

可擴(kuò)展探測(cè)器系統(tǒng)：配備新型閃爍體背散射探測(cè)器（SBED）和多功能背散射探測(cè)器（VBED），SBED在低電壓下仍能捕捉清晰的成分對(duì)比圖像，而VBED支持3D形貌與成分信息的同步獲取，適用于復(fù)雜樣品的多維度分析。

三、智能化操作與高效分析

集成化控制平臺(tái)：通過(guò)SEM Center圖形界面無(wú)縫整合能量色散X射線譜儀（EDS），實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)成分分析與圖像顯示的無(wú)縫切換，提升分析效率。

AI輔助功能：引入LIVE-AI濾鏡優(yōu)化實(shí)時(shí)圖像質(zhì)量，支持快速聚焦和像散調(diào)整；可選軟件如Smile Navi為新手提供操作導(dǎo)航，降低使用門(mén)檻。

自動(dòng)化調(diào)節(jié)：具備自動(dòng)合軸、聚焦、消像散等功能，結(jié)合五軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)（支持360°旋轉(zhuǎn)和傾斜），簡(jiǎn)化復(fù)雜操作流程。

四、廣泛適用性與工業(yè)兼容性

JSM-IT800在納米技術(shù)、半導(dǎo)體、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域表現(xiàn)zhuoyue。例如，其超級(jí)混合透鏡（SHL）可高效分析磁性材料，無(wú)需切換模式；半浸沒(méi)式物鏡（i/is）則擅長(zhǎng)半導(dǎo)體器件的橫截面故障分析。此外，設(shè)備支持大束流下的高分辨成像（如100nA@5kV），結(jié)合高速元素面分析和EBSD（電子背散射衍射）功能，滿足工業(yè)質(zhì)檢的快速檢測(cè)需求。